光刻胶材料研究获突破

       近日Nature Nanotechnology发表了一篇题为《Light-Sensing Resistant Graphene Oxidewith Ultrafast and High-Resolution Patterning》的研究论文，该论文的作者是来自清华大学核能与新能源技术研究院何向明研究员和徐宏副教授和浙江大学光电科学与工程学院匡翠方教授。

这项研究主要涉及到一种新型的光刻胶材料，可以大大提高光刻的效率，将传统方法的速度提升了1000倍以上。该论文展示了一种极其灵敏的氧化锆杂化-(2,4-双(三氯甲基)6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪)(ZrO2-BTMST)光刻胶系统，可以实现7.77 ms–1的印刷速度，比传统聚合物光刻胶快三到五个数量级。

该研究构建了一种基于多边形激光扫描仪的双光子光刻机，其线性步进速度接近10 ms –1。使用ZrO 2-BTMST光刻胶，在约33分钟内制作了面积为1 cm的方形光栅。此外，ZrO2-BTMST光刻胶的化学成分极少，可实现高精度图案化，线宽小至38 nm。

来源：（芯智讯）